1. Materiaalit ja laitteet
Ydinmateriaalit: CeriumoksidiJauhe, jonka puhtaus on suurempi tai yhtä suuri kuin 99%, hiukkaskoko 1-5 μm (karkea hiukkaskoko 3-5 μm karkeaa kiillotusta varten, hieno hiukkaskoko 1-2 μm hienoa kiillotusta varten)
Apumateriaalit:Deionisoitu vesi, pH -säätäjä (NaOH/sitruunahappo)
Työkalut ja laitteet: kiillotuskone (manuaalinen tai sähköinen), polyuretaani/villan kiillotustyyny, sekoittaja, pH -testipaperi, mittauskuppi
2. tavanomaiset toimintamenettelyt
1. Esikäsittely
Lasinpuhdistus: DeRonsing etanolilla/asetonilla, ultraäänipuhdistuksella mikronin - kokoisten hiukkasten poistamiseksi
Pillotusnesteen valmistus: Sekoita tasaiseen suspensioon ceriumoksidin suhteen mukaan: vesi=1: 5-10, säädä pH arvoon 9-11 (emäksinen ympäristö kiihdyttää kemiallista reaktiota)
2. kiillotusoperaatio
Laitteiden virheenkorjaus: Kiinnitä märkä kiillotustyyny, aseta nopeus, 100-300 rpm tavalliselle lasille, 50-100 rpm optiseen lasiin
Materiaalin lastaus ja kiillotus: Suihkute liette, levitä 0,1-0,5MPa paine, käytä 8-muotoista suuntausta ja täytä materiaalia 2-5 minuutin välein
Prosessin seuranta: Tarkkaile karheutta mikroskoopilla (kohde RA<1μm), and detect the surface error with interferometer (PV<λ>
3. Post - käsittely
Puhdistus: Huuhtele deionisoidulla vedellä → Pyyhi isopropyylialkoholilla → Kuivaa kuumalla ilmalla alle 60 astetta
Laadun tarkastus: Valon läpäisevyystesti (normaali lasi, joka on suurempi tai yhtä suuri kuin 90%), UV -valon tarkastus pintavirheistä
3. Yleiset ongelmat
Pintasumu: Lietteet ovat liian konsentroitua / kiillotus on liian liiallista, laimentaa liette ja lyhennä hienoa kiillotustaika
Syventävät naarmut: kiillotustyynyn / epätasaisen paineen epäpuhtaudet, korvaa kiillotustyyny ja kalibroi painejärjestelmä
Matala hyötysuhde: pH -poikkeama / lämpötila on liian alhainen, säädä pH 10: een ja lämmitä lietteet 25 asteeseen